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氧化鋅是提供鋅離子的來源。在配制鍍液時也可不用氧化鋅，而用氰化鋅。若氧化鋅含量較高，可允許較大的電流密度、電流效率也高、沉積速度快，但覆蓋能力較低、鍍層結(jié)晶較粗；氧化鋅含量低時，允許的電流密度也低、電流效率相對降低，但分散能力和覆蓋能力升高、鍍層結(jié)晶細致光亮，適宜鍍形狀較復(fù)雜的產(chǎn)品。在能滿足鍍件質(zhì)量的前提下，氧化鋅含量盡可能取上限。另外，氧化鋅的含量還要與游離氰化鈉的濃度和氫氧化鈉的含量相適應(yīng)，也和鍍液溫度有關(guān)。實踐表明，以鍍液溫度來確定鋅離子濃度，也是有效的鍍液維護方法之一。