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硫酸濃度對(duì)膜層質(zhì)量有較大的影響。以5％和20％的硫酸進(jìn)行試驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，在5％的稀電解液中氧化膜層較厚、即長(zhǎng)膜速度快，在20％的濃電解液中膜層則較薄，即長(zhǎng)膜速度慢。這主要是濃的電解液對(duì)氧化膜層溶解速度較快的原因，從而導(dǎo)致膜層生長(zhǎng)速度慢。但也不能因?yàn)檫@樣就認(rèn)為電解液越稀越好。低的硫酸濃度會(huì)使膜層光度降低、著色性能變差。但濃的電解液雖然溶膜快但能使膜層具有強(qiáng)的吸附能力且富有彈性，有利于染色。但也不能認(rèn)為其濃度越高越好。一般常用范圍為：200～280g/L.
說(shuō)明：
一、稀硫酸電解液有利于氧化膜的生長(zhǎng)、且膜層致密、抗腐蝕性高、耐磨性能好。
缺點(diǎn)：孔隙率低、吸附性差不易染色。
二、濃硫酸電解液生成的膜層孔隙率高而富有彈性，吸附能力強(qiáng)易染色。
缺點(diǎn)：溶膜速度較大、使氧化膜層生長(zhǎng)速度減慢。
因此要根據(jù)產(chǎn)品的要求及性能來(lái)靈活選用硫酸的濃度。