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鎳電鑄通用的工藝流程如下：母型前處理～清洗一電鑄鎳一出槽清洗一母型脫出一型腔質(zhì)量檢查一型腔鍍鉻(選擇采用)。
母型的前處理包括對母型的外觀與設(shè)計的符合性的檢查。對于金屬母型，和銅電鑄一樣，要常規(guī)除油和弱酸活化。對于非金屬母型，則要按照前面介紹的非金屬表面金屬化的方法使表面導(dǎo)電化。
由于鎳的自鈍化性能較強，中間斷電很容易出現(xiàn)鍍層分層，所以電鑄過程中出槽觀察要特別小心。盡量少將電鑄中的制品取出槽外觀察，并且取出時也不要清洗，出槽時間不要過長。然后帶電下槽繼續(xù)電鑄。
①氨基磺酸鎳工藝。最常用的鎳電鑄工藝是低應(yīng)力和有較高沉積速度的氨基磺酸鎳電鑄工藝，其組成和工藝見表。
氨基磺酸鎳鍍液的組成和工藝
成 分    工藝參數(shù)    鍍液中的作角
氨基磺酸鎳
硼酸
表面活性劑
pH值
溫度
表面張力    450～500g／L
35～40g／L
1．5ml/L
3.5±2
30～50℃
(33±3)dyn／cm    提供鎳離子
pH值的緩沖
表面張力調(diào)整
電流效率、電流密度的穩(wěn)定性
離子的擴散
防止氣體的聚集
注：1dvn=10—5N．
②硫酸鹽電鑄鎳工藝。硫酸鹽電沉積鎳是當(dāng)代鍍鎳的主流工藝。這種鍍液以硫酸鎳為主鹽，氯化物、硼酸等為輔助添加物，加上各種鍍鎳添加劑技術(shù)，可以獲得各種性能的鍍鎳層，在鎳電鑄中也有著廣泛的應(yīng)用。
硫酸鎳    250～350g／L
溫度    45～65℃
氯化鎳    35～50g／L
電流密度    3～10A／dm2
硼酸    30～45g／L
陰極    移動或空氣攪拌
pH值    3．O～4．2
這種鍍鎳液比氯化銨型的沉積速度要高。在較低溫度下也能在較高電流密度下工作。鍍液分散能力也較好，且pH值的緩沖能力也較強，是通用的電鑄液。