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鍍層厚度非常均勻，化學(xué)鍍液的分散力接近100%，無明顯的邊緣效應(yīng)，幾乎是基材（工件）形狀的復(fù)制，因此特別適合形狀復(fù)雜工件，腔體件、盲孔件、管件內(nèi)壁等表面施鍍。電鍍法因受電力線分布不均勻的限制是很難做到的。由于化學(xué)鍍層厚度均勻、又易于控制，表面光潔平整，一般均不需要鍍后加工，適宜做加工件超差的修復(fù)及選擇性施鍍；
 
通過敏化、活化等前處理，化學(xué)鍍可以在非金屬（非導(dǎo)體）如塑料、玻璃、陶瓷及半導(dǎo)體材料表面上進(jìn)行，而電鍍法只能在導(dǎo)體表面上施鍍，所以化學(xué)鍍工藝是非金屬表面金屬化的常用方法，也是非導(dǎo)體材料電鍍前做導(dǎo)電底層的方法；
 
工藝設(shè)備簡單，不需要電鍍、輸電系統(tǒng)及輔助電極，操作時(shí)只需把工件正確懸掛在鍍液中即可；
 
化學(xué)鍍是靠基材的自催化活性才能起鍍，其結(jié)合力一般均優(yōu)于電鍍。鍍層有光亮或半光亮的外觀、晶粒細(xì)、致密、孔隙率低，某些化學(xué)鍍層還具有特殊的物理化學(xué)性能。
 
不過，電鍍工藝也有其不能為化學(xué)鍍所代替的優(yōu)點(diǎn)，首先是可以沉積的金屬及合金品種遠(yuǎn)多于化學(xué)鍍，其次是價(jià)格比化學(xué)鍍低得多，工藝成熟，鍍液簡單易于控制。
 
由于電鍍方法做不到的事情化學(xué)鍍工藝可以完成，正因?yàn)榛瘜W(xué)鍍方法具有這些明顯的優(yōu)勢(shì)性而使其用途日益廣泛。
 
 
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